NOTÍCIA ORIGINAL – www.sincrotronalba.es – 11/11/2018
El Sincrotró ALBA juntament amb la Universitat de Barcelona (UB) ha presentat una proposta al Pla de Doctorats Industrials de la Generalitat de Catalunya per contractar un estudiant investigador que es dedicarà a un projecte industrial mentre realitza estudis de doctorat.
El projecte industrial es centrarà en la tecnologia de plasma de RF de baixa pressió, així com en la deposició de la capa atòmica (ALD) i consta d’una part aplicada i una part científica. La primera part aplicada està orientada al desenvolupament tècnic addicional d’una font de plasma de RF per a la neteja de superfícies de precisió òptica i càmeres UHV crítiques, especialment per a components òptics de grans dimensions, en el camp de l’òptica de sincrotró i làsers d’electrons lliures (FEL) com la Litografia Ultraviolada extrema semiconductora (EUV) de pròxima generació. L’última part científica s’ocupa de les activitats de R + D centrades en l’ús del mateix tipus de font de plasma RF per a la deposició de pel·lícula prima epitaxial de multicapes híbrides de grafè / òxid metàl·lic, fent ús de les competències internes sobre la deposició de la capa atòmica (ALD) com una eina addicional per a la deposició de pel·lícules primes d’òxid metàl·lic sobre nanoestructures de carboni de grafè orientades a materials supercapacitadors.
